分析
主要設備一覧（分析装置）
化学分析
- 誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-MS）
- 四重極型ICP-MS（ICP-QMS）
- トリプル四重極型ICP-MS（ICP-QQQ）
- クリーンルーム
- オンサイト分析装置
- GREENFACT®︎、GREENFACT®︎II
- ポータブル蛍光X線分析装置
- レーザーアブレーションICP質量分析装置（LA-ICP-MS）
- ICP発光分析装置（ICP-AES）
- 迅速分析装置（スパーク発光分析装置：スパーク-OES）
四重極型ICP-MS 
トリプル四重極型ICP-MS 
ICP発光分析装置 
クリーンルーム
GREENFACT®II 
ポータブル蛍光X線分析装置 
レーザーアブレーション装置 
スパーク発光分析装置
主要な分析装置となります。上記以外の装置も多数保有しております。
医薬品評価
- 核磁気共鳴装置（400MHzNMR）
- 液体クロマトグラフ精密質量分析装置（LC-MS)
- 誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-MS）
- タンデム四重極質量分析装置（LC-MSMS）
- ヘッドスペースガスクロマトグラフ水素炎イオン化検出装置（HS-GC-FID）
- クリーンルーム
核磁気共鳴装置 
液体クロマトグラフ
精密質量分析装置
誘導結合プラズマ質量分析装置 
タンデム四重極質量分析装置
ヘッドスペース
ガスクロマトグラフ
水素炎イオン化検出装置
クリーンルーム
主要な分析装置となります。上記以外の装置も多数保有しております。
物理解析
- 高感度EDX搭載FE-TEM：局所高感度元素分析
- 収差補正型走査透過電子顕微鏡（Cs補正STEM）：原子分解能
- 極低加速電圧走査電子顕微鏡（ULV-SEM）：極表面観察
- 電界放出型電子線マイクロアナライザ（FE-EPMA）：高空間分解能分析
- 微小部X線光電子分光装置（XPS）：表面状態分析
- オージェ電子分光装置（AES）：局所表面・破面分析
- X線回折装置（XRD）：微小部、薄膜、応力、高温in-situ等
- X線回折/残留γ測定装置
- 大気非暴露解析装置：FIB、SEM、XPS等
-
高感度EDX搭載FE-TEM -
極低加速電圧走査電子顕微鏡 -
X線回折装置
主要な分析装置となります。上記以外の装置も多数保有しております。
環境分析
- 高分解能型ガスクロマトグラフ質量分析計（高分解能GC-MS）
- 液体クロマトグラフタンデム質量分析計（LC-MSMS）
- ガスクロマトグラフ質量分析計（GC-MS）
- ガスクロマトグラフ熱伝導度検出器（GC-TCD）
- ガスクロマトグラフ水素炎イオン化検出器（GC-FID）
- ガスクロマトグラフ炎光光度検出器（GC-FPD）
- ガスクロマトグラフ電子捕獲型検出器（GC-ECD）
- 全有機体炭素分析装置（TOC）
-
高分解能型ガスクロマトグラフ質量分析計 -
液体クロマトグラフタンデム質量分析計
主要な分析装置となります。上記以外の装置も多数保有しております。
作業の流れ
関連ページ・関連リンク
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- JFEテクノリサーチ株式会社 営業本部
- 0120-643-777
